龙图光罩申请掩模版清洗方法专利，提高了掩模版清洗的效率
金融界
2024-03-05 10:22:32
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金融界2024年3月5日消息，据国家知识产权局公告，深圳市龙图光罩股份有限公司申请一项名为“掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质“，公开号CN117644074A，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质，其方法包括：通过所述光学检查系统对掩模版进行脏污检测，获取检测结果；根据所述检测结果生成清洗流程，并根据所述清洗流程获取清洗参数；将所述清洗参数输入所述逻辑控制器，通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果。本发明解决了掩模版清洗时没有对应的清洗流程以及清洗参数进行清洗，导致清洗不干净的问题，提高了掩模版清洗的效率。
来源：金融界
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