ASML变卦了，透露三点，信息量可不小
ASML是全球光刻技术最先进的厂商，其研发生产的EUV光刻机，是生产制造7nm以下芯片的必要设备，各大芯片厂商都争相购买。
但在光刻机态度上，ASML的态度也很明确。
首先，ASML的先进光刻机要优先供货给台积电，因为ASML差一点倒闭，是台积电帮了ASML，还助力ASML研发出来了全球首台浸润式光刻机和EUV光刻机。
也就是因为如此，ASML七成EUV光刻机都出货给了台积电，三星想要更多EUV光刻机，但由于产能紧张，ASML仅在韩国建设了EUV光刻机再制造工厂。
其次，ASML已经明确表态要加速在国内市场，提供其能够提供的一切技术，甚至为了向国内厂商出货光刻机等设备，还向美发出了警告。
但没有想到的，最近的ASML却变卦了，情况是这样的。
据悉，ASML改变了优先供货顺序，不再优先向台积电提供全新一代光刻机，而是优先向英特尔供货，并将全新一代EUV光刻机给了英特尔。
另外，ASML还将启用在美的新办公大楼，这无疑是做出了更进一步的打算，毕竟，ASML在美的研发中心和工厂越多，其受到的限制越多。
也正是因为如此，才说ASML变卦了。
ASML变卦了，透露三点，信息量可不小
ASML改变了优先供货顺序，还将在美启用新的办公大楼，可以说，ASML的这两大行动透露了三点，而且是信息量不小。
首先，英特尔或将重回第一。
在芯片制造方面，英特尔原本是第一，结果被三星、台积电超越了，但是，英特尔已经明确表态，将在3年内完成7nm到20A工艺芯片的研发生产任务。
最主要的是，英特尔计划在2025年超越台积电重回第一。
ASML此次优先将全新一代EUV光刻机供货给英特尔，可见英特尔对发展先进芯片制造技术的决心，也证明其想超越台积电的决心。
因为全新一代EUV光刻机的效率相比上一代EUV光刻机提升了20%，英特尔优先获得，不仅能够提升自身技术和效率，在一定程度上也阻止了台积电的进步。
毕竟先进的光刻机设备是制造先进制程芯片和提升产能的关键所在，台积电失去了优先供货权，自然会受到影响，三星就是例子，因缺少EUV光刻机导致产能低等。
其次，A不自由
ASML将全新一代EUV光刻机优先供货给英特尔，还将启用在美的新办公大楼，进一步向美转移，这些都说明ASML不自由，想自由出货难。
要知道，英特尔是ASML最大的股东，其在转让EUV光刻机订单的情况下，转身就获得全新一代EUV光刻机，可见，ASML并不自由。
另外，ASML自身都表示，其在荷兰本土生产的DUV光刻机是可以自由出货的，但在美国生产的DUV光刻机，出货则是需要许可的。
但就在这样的情况下，ASML仍进一步向美转移，启用新的办公大楼，这意味着ASML想自由出货就难了。
最后，光刻机还得靠自己。
ASML改变供货顺序，进一步向美转移，这再次说明了光刻机还得靠自主研发制造，事实情况也证明了，购买还是不够安全，三星和台积电均是例子。
就像ASML将优先供货权给了英特尔，这必然会影响台积电，一旦国内厂商大量使用ASML的DUV光刻机等技术，结果可想而知。
所以才说光刻机这种核心技术，还需要靠自己研发，庆幸的是，上海微电子新一代沉浸式光刻机即将下线，功能与ASML的DUV光刻机类似。
另外，国内厂商加速研发突破相关光刻机技术，已经在光源等技术方面找到了突破口，未来自主研发制造EUV光刻机是必然没问题。