原标题：国内EUV光刻机，正在“突围”，如何保持“突围”之势？

EUV光刻机的背后是高度全球化的供应链，别看是由荷兰ASML公司生产制造的，如果没有各国技术的支持，ASML也无法完成EUV光刻机的量产。

德国的光学镜头、英国的真空、美国的光源、日本的光刻胶等等都是EUV光刻机的重要组成部分。可是由于EUV光刻机无法自由出货，想要掌握这项顶级芯片制造设备，只能自力更生。

好在中国EUV光刻机正在“突围”，目前取得了怎样的进展呢？如何保持“突围”之势？

中国EUV光刻机“突围”之势

ASML对掌握EUV光刻机的量产能力表现得十分自信。一边告知即便公布图纸，别人也造不出，另一边又宣传自己会不断提高EUV光刻机的产能，预计到2025年将掌握年产70台EUV光刻机的能力。

ASML的自信正在转变为担忧，因为各国正在加紧对光刻机技术的研发。

包括中国就已经展开EUV光刻机的诸多研发动作，从光源到光刻胶材料，再到EUV技术研发的人才专项招聘，都证明中国正在对EUV光刻机进行突围。目前取得了怎样的进展呢？

先来看光源。光刻机是通过光进行芯片加工，用类似照相机的原理，将芯片线路图复印在涂抹光刻胶的硅片上。最先进的光源是波长为13.5nm的极紫外光，也就是大家常说的EUV。

想要掌握EUV极紫外光源可不容易，但是并不意味着没有机会。

清华大学完成了一项新型粒子加速器光源SSMB的验证，这项研究成果有望基于SSMB解决EUV光源的难题。光源的问题如果能得到解决，其余的核心技术难题就有迹可循了。

再看光刻胶材料。光刻胶和光源几乎是对标的，分为i线、G线、KrF、ArF、EUV。生产EUV光刻机必须要用上EUV光刻胶。只是这类顶级的半导体材料主要掌握在日本JSR，东京应化这些巨头手中。

不过好在国产厂商已经在EUV光刻胶材料上进行突围了。由上海新阳展开行动，据该公司表示，开始进行EUV光刻胶的前期探索性基础研发。

上海新阳是国内知名的光刻胶厂商，随着对EUV光刻胶的探索性工程展开，相信在未来会取得显著的进步。一旦成功破冰，将为国产EUV光刻机产业链提供材料领域的支持。

另外就是EUV技术研发的人才专项招聘。根据中科院上海光机所发布的2022博士后招聘消息显示，有许多工作岗位和内容都和EUV有关。比如原子分子物理这项工作岗位涉及的工作内容为光刻机EUV光源产生理论与实验研究。

专业的事还是需要专业的人去做，EUV光刻机距离普通人有些遥远，但却是中科院重点的科研目标之一。

“突围”之势如何保持？

就有外媒表示中国EUV光刻机正在突围，拦不住了。正如外媒所言，中国EUV光刻机已经从各个节点进行布局，光源、光刻胶、人才或许只是冰山一角。这种“突围”之势如何保持呢？

EUV光刻机这种顶级的设备制造，是需要放在产业链中去解决的。以国内丰富的半导体供应链体系来看，想要保持突围的趋势，就需要进行更深厚的技术、人才、产业积累。

把EUV光刻机这样的整体设备技术，分散成大大小小的研发目标。各大国产厂商在擅长的领域内加强探索。比如华卓精科有能力在双工件台进行布局，可以进一步扩大技术体系，为产业积累更丰富的技术储备。

除此之外，人才也是突围的必要条件。国内芯片行业有20万的人才缺口，未来对优秀的芯片人才会有更大的需求。尤其是在硬核芯片制造领域，更是需要大量的人才就位到岗。

值得一提的是，国内高校已经开始重视芯片人才的培养了，相继成立集成电路学院。中微半导体，中芯国际等国产半导体巨头展开校企合作，与国内顶尖高校共同培养芯片技术人才，为产业提供更大的人才力量。

从技术、人才、产业入手，一步一个脚印实现厚积薄发。正所谓不积跬步，无以至千里。要想取得成功，就得靠不断的努力。

EUV光刻机是一个长远的目标，就像十几年前布局盾构机，手撕钢等关键技术一样，刚开始以为难以成功的技术，最终还是突破了。不仅打破国外技术垄断，而且还实现全球领先。

总结

中国EUV光刻机正在突围，分别在光源、光刻胶、人才这几大方面进行布局。相信这只是开始，未来还会有更多的进展。同时也希望能有越来越多的国产厂商参与其中，共同推进国产光刻机的进步。